氢氟酸 HF 49% | 半导体级 | 韩国产

氢氟酸(HF, CAS 7664-39-3)是一种弱酸但极具腐蚀性的化学品，是半导体晶圆SiO₂(二氧化硅)蚀刻不可或缺的化学品。在晶圆厂中，HF 49%用于去除天然氧化硅层，在沉积或掺杂前形成原子级洁净表面。除半导体外，HF还用于玻璃蚀刻、金属表面酸洗和氟化合物合成。禄天通过正规进口供应HF 49%，提供完整MSDS/COA，全国工业区配送。致电 +84 979 891 929 — 15分钟内报价。