H2O2电子级与工业级对比：SEMI规格及半导体应用

H2O2电子级与工业级对比：用于半导体制造的纯度比较

过氧化氢电子级（CAS 7722-84-1，浓度30–32%）通过真空蒸馏、离子交换和膜过滤等多级提纯工艺，将金属杂质降低到ppb至ppt级别。电子级产品在ISO 5级洁净室中灌装，使用高纯PE容器或PTFE内衬ISO罐包装，防止二次污染。工业级H2O2 50%用于水处理、漂白等一般工业，不严格控制金属杂质含量。

SEMI C30-1110标准分类

SEMI C30-1110将H2O2分为5个等级。Grade 1允许ppm级杂质，Grade 5要求每种金属元素（Al、Na、Fe、Ca、Cu、Zn等）低于10 ppt。Grade 2（<10 ppb）是半导体应用的最低要求，Grade 5适用于sub-7nm先进制程。分析方法：Grade 4–5必须使用ICP-MS，Grade 2–3可用GF-AAS。

半导体制造中的应用

H2O2电子级是晶圆厂湿法工艺的主要消耗化学品：RCA清洗（SC-1和SC-2）、硅蚀刻、SPM光刻胶剥离、CMP后残留物去除。SC-1（NH₄OH/H₂O₂/H₂O = 1:1:5，75–80°C，10分钟）去除有机物和颗粒；SC-2（HCl/H₂O₂/H₂O = 1:1:6，75–80°C，10分钟）去除金属离子。

Lộc Thiên从日本和韩国进口电子级H2O2，覆盖SEMI Grade 2至Grade 5，每批附带ICP-MS COA。热线0979 891 929。