Dung dịch RCA-1 và RCA-2: Quy trình làm sạch wafer silicon chuẩn cho nhà máy bán dẫn
Dung dịch RCA-1 và RCA-2: Quy trình làm sạch wafer silicon chuẩn cho nhà máy bán dẫn
TL;DR: Quy trình RCA clean gồm hai bước SC-1 (NH₄OH:H₂O₂:H₂O = 1:1:5 ở 75–80°C, 10 phút) loại bỏ organic residue và hạt; SC-2 (HCl:H₂O₂:H₂O = 1:1:6 ở 75–80°C, 10 phút) loại bỏ ion kim loại (Fe, Na, Ca, Al). Đây là tiền xử lý bắt buộc trước oxidation, diffusion, CVD trong sản xuất chip. Lộc Thiên cung ứng NH₄OH, HCl, H₂O₂, HF electronic grade cho RCA clean tại nhà máy FDI.
RCA Clean là gì?
RCA clean là quy trình làm sạch wafer silicon chuẩn do Werner Kern và D. Puotinen phát triển tại RCA Laboratories năm 1965. Quy trình này gồm hai bước chính: SC-1 (Standard Clean 1) sử dụng hỗn hợp NH₄OH/H₂O₂/H₂O để loại bỏ chất hữu cơ và hạt; SC-2 (Standard Clean 2) sử dụng HCl/H₂O₂/H₂O để loại bỏ ion kim loại.
SC-1 (RCA-1) — Organic Clean + Particle Removal
SC-1 (Standard Clean 1), còn gọi là RCA-1 hoặc APM (Ammonia-Peroxide Mixture), là bước đầu tiên trong quy trình RCA clean. Hỗn hợp NH₄OH/H₂O₂/H₂O với tỷ lệ thể tích 1:1:5 được gia nhiệt đến 75–80°C và xử lý wafer trong 10 phút.
SC-2 (RCA-2) — Ionic Clean + Metal Removal
SC-2 (Standard Clean 2), còn gọi là RCA-2 hoặc HPM (Hydrochloric-Peroxide Mixture), là bước thứ hai trong quy trình RCA clean. Hỗn hợp HCl/H₂O₂/H₂O tỷ lệ 1:1:6 ở 75–80°C trong 10 phút loại bỏ ion kim loại và các hydroxide kim loại còn sót từ SC-1.
Hóa chất cho RCA Clean tại Lộc Thiên
| Hóa chất | CAS | Nồng độ | Grade | Ứng dụng |
|---|---|---|---|---|
| NH₄OH | 1336-21-6 | 25% | SEMI Grade 2–5 | SC-1 |
| HCl | 7647-01-0 | 32–37% | SEMI Grade 2–5 | SC-2 |
| H₂O₂ | 7722-84-1 | 30–32% | SEMI Grade 2–5 | SC-1 + SC-2 |
| HF | 7664-39-3 | 49% | SEMI Grade | Oxide strip |
Câu hỏi thường gặp (FAQ)
RCA-1 và RCA-2 khác nhau thế nào?
RCA-1 (SC-1) dùng NH₄OH/H₂O₂/H₂O ở pH kiềm, loại bỏ organic residue và particle. RCA-2 (SC-2) dùng HCl/H₂O₂/H₂O ở pH acid, loại bỏ ion kim loại.
Có thể bỏ qua SC-2 không?
Không nên. SC-1 loại bỏ organic và particle nhưng để lại Fe và các hydroxide kim loại trên bề mặt wafer.
RCA clean mất bao lâu?
Tổng thời gian khoảng 30–40 phút: SC-1 (10 phút) + rinse (5 phút) + SC-2 (10 phút) + rinse (5 phút) + sấy khô.
Lộc Thiên cung cấp NH₄OH electronic grade không?
Có. NH₄OH 25% (CAS 1336-21-6) đạt SEMI Grade 2–5, tổng kim loại <1 ppb, COA theo lô.
🛒 Cần mua NH₄OH/HCl/H₂O₂ electronic grade? Báo giá hóa chất RCA clean — COA theo lô, giao KCN toàn quốc. Hotline 0979 891 929.
